平行光曝光机zkue-凯发k8官网

一、设备概述
凯发k8官网专门用于film黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用

进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行film湿膜、干膜

曝光。双工位平台真空吸附将film与mask贴紧，曝光解析度20um。

二、设备规格以及主要技术指标
◆产品规格:曝光面积400mm x 500mm
曝光平台面积> 500mm x 600mm
◆电源: ac380v 3f 50hz 7kva
◆机台外尺寸: w1350mm x l3250mm x h2350mm
◆曝光方式:单面曝光玻璃vs玻璃x 2组，采用电磁锁控制
◆曝光灯管: 5kw x 1pcs(平行光曝光灯)曝光光强> 20mw/cm，

灯管保用800h
◆光学系统:采用进口曲面mirror反射光学系统
◆曝光均匀度: > 90
◆冷 却系统:灯管:外部冰水冷 却内循环水.台面:强制气冷式
◆曝光控制:智慧型人机界面及曝光能 量控制(能 量模式及时间模式)
◆真空系统: 400mmhg以上
◆灯源: uv能 量积分器进行曝光能 量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)
◆平行光曝光机空压系统: 4-7kf/cm2,中12mm, 200l /min
◆平行半角: da<2。
◆曝光精度:线路宽30um，线间距30um
◆曝光能 量设置: 365nm
◆点灯计时:配置时间计时器，可清零
◆平台平面精度: 0.02mm内
◆平台真空:平台真空将film与mask贴紧(使用鉻版时可不用）
◆平台进出曝光区:上下框架交替进出
◆机内环境: cl ass100内检测系统:程序及传感器检测动作到位状况
◆平行光曝光机灯管保护:灯室过热检知及门打开时uv灯强制熄灭