【正凯机电】平行曝光机介绍及应用 -凯发k8官网

平行光曝光机双工位曝光机专门用于film黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行film湿膜、干膜曝光。双工位平台真空吸附将film与mask贴紧，曝光解析度20um。
尺寸规格:
有效曝光面积400mm x 500mm
曝光平台面积> 500mm x 600mm
机台外尺寸: w1350mm x l3250mm x h2350mm
曝光方式:单面曝光，玻璃vs玻璃x 2组，采用电磁锁控制
曝光灯管: 5kw x 1pcs(平行光曝光灯)
曝光光强> 20mw/cm，灯管保用800h
平行光曝光机曝光均匀度: > 90%
曝光精度:线路宽30um，线间距30um
曝光能量设置: 365nm
曝光控制器:智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)
设备型号：zkue-m552平行光曝光机

正凯机电作为光和热系列自动化设备制造商曝光机为各类产品之一。19年的研发、设计、制作设备的专业经验，可根据客户需求定制设备。如有需要请联系13960450755或搜索正凯机电设备了解更多信息。